技術(shù)編號：4439449
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及。更為詳細地，涉及適于制造實施 了能夠獲得低反射率的表面處理的樹脂片的。背景技術(shù)將刻入有納米尺寸(0. 001 1 μ m)的凹凸(下面，亦稱為“納米構(gòu)造體”。)的模 具按在涂抹在基板上的樹脂材料上來轉(zhuǎn)印形狀的技術(shù)、所謂的納米壓印技術(shù)近幾年受到關(guān) 注，正在進行目標是應(yīng)用于光學(xué)材料、IC的細微化、臨床檢查基板等的研究。該技術(shù)是在光 盤制作中廣為人知的熱壓花技術(shù)的延伸，1995年由S. Y. Chue等人證明能夠應(yīng)用于到IOnm 水平為止。在以往利用...
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