技術(shù)編號(hào)：4904765
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及。更詳細(xì)地說(shuō)是涉及有效地凈化從半導(dǎo)體制造工序排出的、含有氮氟化物氣體的凈化劑及凈化方法，其凈化劑在空氣中比較穩(wěn)定且容易保存、使用，在凈化中或凈化后的后處理中不伴有危險(xiǎn)，另外不排出NOx。背景技術(shù) 在半導(dǎo)體制造工業(yè)中，作為硅、硅氧化物等的干腐蝕氣體和CVD裝置的室清凈氣體，使用著三氟化氮。已經(jīng)被認(rèn)識(shí)的三氟化氮，對(duì)于水的溶解度小，與酸或堿幾乎都不反應(yīng)，在室溫下相當(dāng)穩(wěn)定，對(duì)于地球溫室化效應(yīng)的影響較大，除此之外有報(bào)告其容許濃度達(dá)到10ppm，當(dāng)其毒性較高...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。