技術(shù)編號：4917415
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及。本發(fā)明的設(shè)備是由內(nèi)部安裝有多個氣體膜組件的氣體膜分離區(qū)、用于容置硫氧化菌、氨氧化菌和硝化菌附著的填料的下向流式好氧區(qū)、用于容置含有甲烷氧化菌和反硝化菌的懸浮水溶液的升流式厭氧區(qū)、滲透氣導(dǎo)流區(qū)和滲余氣導(dǎo)流區(qū)構(gòu)成。氣體膜分離區(qū)通過滲透氣導(dǎo)流區(qū)與下向流式好氧區(qū)連通，并通過滲余氣導(dǎo)流區(qū)與升流式厭氧區(qū)連通。氣體膜組件的分離作用，使惡臭物質(zhì)和氧氣進(jìn)入下向流式好氧區(qū)，甲烷進(jìn)入升流式厭氧區(qū)，下向流式好氧區(qū)中的惡臭物質(zhì)的氧化產(chǎn)物輸入升流式厭氧區(qū)為甲烷的氧化提供氧...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。