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技術(shù)編號：5019814

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本發(fā)明涉及氣體消除。本發(fā)明發(fā)現(xiàn)了消除從半導(dǎo)體制造工業(yè)所用的加工裝置排出氣體的方法。背景技術(shù) CF4，C2F6，C3F8，NF3和SF6通常用于半導(dǎo)體制造工業(yè)，例如，用于介電薄膜蝕刻。根據(jù)這些制造過程，一般在從加工裝置泵出的排放氣體中會有殘余的全氟化合物(PFC)。PFC難以從排放氣體中消除，但又不希望其釋放到環(huán)境中，因為現(xiàn)已知道PFC具有較高的溫室作用。消除的目的是將PFC轉(zhuǎn)換成一種或多種化合物，可方便地被傳統(tǒng)的氣體洗滌除去。等離子消除已經(jīng)被證明是一種有效...
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