技術(shù)編號(hào)：5027890
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。從氣流中除氟用的方法和裝置本發(fā)明涉及從氣流中除氟，并特別可用于從半導(dǎo)體或平板工業(yè)中所用的 工藝工具排出的含氟氣體中除氟。CF4、 C2F6、 NF3、 SF6和分子氟(F2)常被用作半導(dǎo)體和平板工業(yè)中的蝕刻 劑前體氣體以便為介電層蝕刻和腔室清洗之類的方法"^供受激氟類的來源。在多數(shù)情況下，受激氟類，如原子氟原位形成或在腔室上游形成以與不 想要的沉積物反應(yīng)并形成容易泵出的揮發(fā)性氟化物。但是，通常，這些步驟 中的氣體利用效率低，因此從工具中排出的氣流具有殘留量...
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