技術(shù)編號：5270792
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。一種，主要應(yīng)用于單晶硅表面納米結(jié)構(gòu)的加工。其具體操作方法是先用濕法氧化的方法在單晶硅表面生長SiOx薄層，然后將生長有SiOx薄層的單晶硅取出清洗并固定在樣品臺(tái)上，然后將二氧化硅球形探針安裝在掃描探針顯微鏡或多點(diǎn)接觸微納米加工設(shè)備上，啟動(dòng)設(shè)備，控制探針按設(shè)定的參數(shù)在樣品表面進(jìn)行掃描，再將樣品置于KOH溶液與異丙醇的混合溶液中進(jìn)行刻蝕加工，即可完成。該方法所用SiOx的掩膜制作簡易，成本低廉；探針掃描過程中接觸壓力極低，不會(huì)引起單晶硅基底的屈服，加工得到的單...
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