技術編號：5291736
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及的是表面處理技術中的鍍鉻工藝。鍍鉻技術應用于生產以來，一直以鉻酐(溶于水后稱為鉻酸)為電解液的主要成分。鍍鉻時，鉻酸在少量的硫酸根(或其它陰離子)摧化下，于50℃左右溫度，以每平方分米面的鍍件施加15-40安培直流電而得光亮鍍層。鉻酸具有很大毒性，它對人體和自然環(huán)境危害很大，因此，生產中不影響鍍層質量的條件下，都希望使用低鉻酸濃度的電解液。然而，低鉻酸濃度的電解液覆蓋能力(深鍍能力)差，獲得光亮鍍層的電流范圍窄，槽電壓高，不利于批量生產，應用受到...
注意：該技術已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權人授權前，僅供技術研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術人員進行技術研發(fā)參考以及查看自身技術是否侵權，增加技術思路，做技術知識儲備，不適合論文引用。