技術編號:5293098
提示:您尚未登錄,請點 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及,其中在能夠得到具有高均鍍能力(throwingpower)的鎳、鈷、鐵或其合金的膜的電鍍浴中,通過使用可溶性陽極重復電鍍用于鍍敷的基材的循環(huán)的情況下,可以在長時間內穩(wěn)定地形成具有高均鍍能力和良好外觀的鍍膜。背景技術 對于能夠形成具有高均鍍能力的鍍膜的電鍍溶液,已知包含例如鎳、鈷或鐵(以下只統(tǒng)稱為鎳系金屬)的水溶性鹽,導電劑,緩沖劑,鹵素離子,有機光亮劑等的電鍍溶液(參見日本專利未決公開No.Sho62-103387和No.Sho 62-1099...
注意:該技術已申請專利,請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權人授權前,僅供技術研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術人員進行技術研發(fā)參考以及查看自身技術是否侵權,增加技術思路,做技術知識儲備,不適合論文引用。