技術(shù)編號(hào)：5835327
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及半導(dǎo)體領(lǐng)域的檢測(cè)工藝，具體地說，涉及一種用于檢測(cè)特征尺寸(CD)測(cè)量?jī)x器受到磁場(chǎng)的影響程度的檢測(cè)方法以及應(yīng)用該檢測(cè)方法的CD 測(cè)量?jī)x器。背景技術(shù)隨著半導(dǎo)體器件的小型化發(fā)展，半導(dǎo)體器件上集成電路密集程度大大增加， 集成電路的特征尺寸(CD)成為一個(gè)重要參數(shù)，其精確程度直接影響半導(dǎo)體器 件的電學(xué)性能。半導(dǎo)體器件每一層電路的CD都需要釆用CD測(cè)量?jī)x器進(jìn)行測(cè)量， 并進(jìn)行嚴(yán)格控制，以確保后續(xù)工藝的順利進(jìn)行。業(yè)界常用工序能力指數(shù)(CPK)來衡量一道工序的質(zhì)量...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。