技術(shù)編號：5857149
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實用新型涉及一種液位計，特別是涉及一種用于化學(xué)品存儲罐的液位計。背景技術(shù)在集成電路制造領(lǐng)域，在某些工藝步驟后，通常會在晶圓表面留下污染物，所述污 染物包括有機(jī)化合物、金屬雜質(zhì)或顆粒等，這些污染物對于產(chǎn)品后續(xù)工藝的影響非常大。例 如，顆粒的附著會影響光刻工藝圖案轉(zhuǎn)移的真實性，甚至?xí)斐呻娐方Y(jié)構(gòu)的短路。因此，在 半導(dǎo)體器件制造過程中，除了要排除外界的污染源外，還需要頻繁的進(jìn)行晶圓清洗工作，所 述晶圓清洗工作是在不破壞晶圓表面特性及電特性的前提下，有效地使用化...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。