技術(shù)編號：5858162
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明屬光學(xué)領(lǐng)域，涉及一種測試雜散光的方法及其系統(tǒng)，尤其涉及一種待測光學(xué)系統(tǒng)雜散光檢測方法及雜散光檢測系統(tǒng)。背景技術(shù)雜光輻射是指光學(xué)系統(tǒng)中除了目標(biāo)(或成像光線)外擴(kuò)散于探測器(或成像)表面上的其它非目標(biāo)(或非成像)光線輻射能，以及經(jīng)非正常光路到達(dá)探測器的目標(biāo)光線輻射能。雜散輻射的危害性在于降低像面的對比度和調(diào)制傳遞函數(shù)，使整個(gè)像面層次減少，清晰度變壞，甚至形成雜光斑點(diǎn)，嚴(yán)重時(shí)使目標(biāo)信號完全被雜散輻射噪聲所淹沒。為了保證相機(jī)具有清晰的圖像、較高的傳遞函數(shù)，國...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。