技術(shù)編號:5868382
提示:您尚未登錄,請點 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造工藝,特別涉及。背景技術(shù)近十幾年來,半導(dǎo)體工業(yè)以超乎尋常的速度發(fā)展,在集成電路生產(chǎn)方面取得了巨大的成就。目前,已經(jīng)能夠生產(chǎn)出高性能的SOC(系統(tǒng)級芯片)產(chǎn)品。隨著半導(dǎo)體工藝進入到超深亞微米級,一些關(guān)鍵問題影響到半導(dǎo)體電路的生產(chǎn),其中包括NBTI (負偏壓下溫度不穩(wěn)定性)效應(yīng),即對器件施加負的柵極電壓和溫度應(yīng)力條件下所發(fā)生的一系列現(xiàn)象,NBTI效應(yīng)是影響CMOS器件可靠性的重要因素。由NBTI效應(yīng)引發(fā)的PM0SFET退化逐漸成為影響器件壽...
注意:該技術(shù)已申請專利,請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識儲備,不適合論文引用。