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      具有高、低兩種折射率的多層光學(xué)薄膜厚度的校準(zhǔn)方法技術(shù)資料下載

      技術(shù)編號(hào):5871948

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      本發(fā)明涉及一種。 背景技術(shù)作為特殊形態(tài)材料的光學(xué)薄膜,今天已廣泛地滲透到各個(gè)新興的科技領(lǐng)域,特別 是近年來(lái)引人注目的薄膜光子晶體、納米或亞波長(zhǎng)尺度的多維結(jié)構(gòu)、傳感功能薄膜和高密 度體記錄薄膜等等,其各種特異性能的開(kāi)發(fā)應(yīng)用無(wú)一不與薄膜的特性相關(guān)。這就是因?yàn)楣?學(xué)薄膜具有良好的空間周期結(jié)構(gòu),容易依據(jù)薄膜光學(xué)理論對(duì)薄膜的結(jié)構(gòu)、組份和性能進(jìn)行 復(fù)雜的人工剪裁和設(shè)計(jì),從而實(shí)現(xiàn)其它技術(shù)所無(wú)法達(dá)到的優(yōu)異性能。多層光學(xué)薄膜通常是由高、低折射率的兩種材料在真空室中交替鍍制而...
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