技術(shù)編號：5878206
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及和存儲介質(zhì)，特別是涉及具備收納基板并 實(shí)施處理的減壓室和對該減壓室內(nèi)進(jìn)行排氣的排氣系統(tǒng)的基板處理裝置的處理開始可否 的判定方法。背景技術(shù)對作為基板的晶片實(shí)施等離子體處理的基板處理裝置包括作為收納該晶片的 減壓室的腔室；將處理氣體導(dǎo)入至該腔室內(nèi)的噴淋頭；配置在腔室內(nèi)的、載置晶片并且 向腔室內(nèi)施加高頻電力的基座(susceptor)；以及對腔室內(nèi)進(jìn)行排氣的泵和配管等構(gòu)成的 排氣系統(tǒng)。向被減壓的腔室內(nèi)導(dǎo)入的處理氣體通過高頻電力被激勵(lì)而成為等離子體，該 ...
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