技術(shù)編號：5937479
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本申請的主題涉及化學(xué)分析物的氣相濃度的定量，例如采用包括具有一種或多種參考?xì)怏w的驗證單元或者具有完全或部分真空的光譜分析系統(tǒng)。背景技術(shù)痕量氣體(trace gas)分析器可要求其產(chǎn)生的濃度測量值相對于例如分析器的性能的長期保真精度的周期性驗證，所述分析器的性能與工廠校準(zhǔn)或源于國家或國際標(biāo)準(zhǔn)局(例如包括但不限于國家標(biāo)準(zhǔn)和技術(shù)學(xué)會，National Institute of Standards andTechnology)的標(biāo)準(zhǔn)有關(guān)。用于現(xiàn)場測量驗證的目前的可...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。