技術(shù)編號：6003973
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及波像差測量領(lǐng)域，特別涉及光刻裝置多視場點。背景技術(shù)半導(dǎo)體行業(yè)的一個目標是在單個集成線路(IC)中集成更多的電子元件。要實現(xiàn)這個目標需不斷地縮小元件尺寸，即不斷地提高光刻投影系統(tǒng)的分辨率。物鏡波像差是限制投影系統(tǒng)分辨率的重要因素，它是造成線寬變化的重要原因。雖然物鏡在加工制造和裝配過程中都經(jīng)過了嚴格的檢驗和優(yōu)化，使其波像差最小化，但在物鏡系統(tǒng)集成到光刻機后進行在線的波像差測量仍然必要。這是因為鏡片材料的老化或者物鏡熱效應(yīng)會造成波像差，因此，在光刻機...
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