技術(shù)編號：6018953
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及集成電路(IC)計(jì)量，更具體地，涉及應(yīng)用在光學(xué)計(jì)量的測量、處理和/或仿真中的波長選擇。背景技術(shù) 隨著當(dāng)前IC尺寸越來越小的發(fā)展趨勢，特征測量也因特征尺寸的變小而變得越來越困難。但是，為了確定特征尺寸是否在可接受的范圍內(nèi)，以及是否例如特定的制造過程使得特征側(cè)壁成為錐形、直立、T形頂、倒凹或具有支撐角，對光柵或周期結(jié)構(gòu)的尺寸的了解是必要的。光柵或周期結(jié)構(gòu)的特性如它們的輪廓可采用光學(xué)計(jì)量來確定。在常規(guī)的光學(xué)計(jì)量中，光學(xué)計(jì)量數(shù)據(jù)通常通過對應(yīng)于取決于光學(xué)計(jì)...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。