技術(shù)編號：6027947
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及微納米級三維坐標(biāo)測量，更具體地說是一種微納米級三維測量系統(tǒng) 及測量方法。背景技術(shù)對于測量儀器，除了要求傳感器精度外，儀器結(jié)構(gòu)上的合理布局可以使測量儀器在機(jī)械 加工精度較低的條件下，仍能獲得高的測量結(jié)果，降低測量系統(tǒng)對機(jī)械結(jié)構(gòu)精度的要求。一百多年以來，測量系統(tǒng)都遵循阿貝原則，即當(dāng)測量時被測件的被測尺寸線與測量儀器 標(biāo)準(zhǔn)量尺寸線相重合或者在其延長線上時，測量誤差最小，不符合阿貝原則而產(chǎn)生的測量誤 差稱為阿貝誤差。 一維測量系統(tǒng)能夠做到滿足阿貝原則。而...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。