技術編號：6108912
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及對在X射線照射試料時由試料二次產生的二次X射線(所謂的熒光X射線)進行檢測，來對試料中所包含的成分進行分析的熒光X射線分析裝置。背景技術 一般而言，熒光X射線分析裝置包括X射線照射室，其至少具備X射線源和X射線檢測器；試料臺架(stage)，其在X射線照射室上側開有X射線照射口并用于載置試料；和試料罩，其是在試料臺架上部用于防止X射線泄漏的密閉遮蔽型的結構體，由此試料罩就可開閉(例如，參照專利文獻1)。對分析方法而言，首先舉起試料罩而使試料載置在...
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