技術(shù)編號：6109767
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及使用光學(xué)部件和偏振光觀察系統(tǒng)觀察和分析納米級特征。背景技術(shù) 現(xiàn)有技術(shù)中公知制備具有滿足特定條件的折射率層的樣品支承板的技術(shù)，例如在專利FR2818376和FR2841339中所提供的技術(shù)?，F(xiàn)有技術(shù)中還公知描述了通過分析薄層的折射來觀測納米級厚度差異的設(shè)備的專利US5631171。這些各種各樣的方法對于要觀察的每種樣品都需要設(shè)計和制備特定的基板，并且不能進(jìn)行待定樣品或者那些具有可變特性的樣品的研究。發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明旨在通過提供可以通過觀察它們的光學(xué)和...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。