技術編號：6110632
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。同時相移的斐索干涉儀相關申請本發(fā)明基于且要求2003年8月28日提交的美國臨時專利申請 No. 60/498, 522的優(yōu)先權(quán)。技術,領域本發(fā)明涉及電磁波前的測量。特別地，本發(fā)明涉及由斐索干涉儀 產(chǎn)生的干涉光束的定量瞬時測量。背景技術光束測量和品質(zhì)鑒定在例如數(shù)據(jù)存儲激光頭的許多光學部件的制 造中是重要的。因此，已經(jīng)設計出許多光學干涉測量系統(tǒng)用以提高測 量的精確性和可靠性。 一般而言，產(chǎn)生測試和參考光束的前端干涉測 量裝置與后端光學裝置相結(jié)合，用以解決光束之...
注意：該技術已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術人員進行技術研發(fā)參考以及查看自身技術是否侵權(quán)，增加技術思路，做技術知識儲備，不適合論文引用。