技術(shù)編號(hào)：6151673
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及輻射成像系統(tǒng)探測器，尤其涉及應(yīng)用于X射線輻射成像系統(tǒng)中的雙能 X射線陣列探測器，本發(fā)明屬于輻射檢測。背景技術(shù)X射線穿透被檢物體之后，其能譜會(huì)發(fā)生變化，這些變化和被檢物體的材料組成有 關(guān)。傳統(tǒng)的雙能X射線陣列探測器是由高、低能兩個(gè)探測器組成，其中每個(gè)探測器又包括一 個(gè)閃爍體陣列和一個(gè)光電二極管陣列。低能陣列探測器布置在靠近被檢物體的一側(cè)，主要 吸收X射線能譜中的低能部分，高能陣列探測器布置在低能陣列探測器后邊，主要吸收X射 線能譜中的高能部分。一般...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。