技術(shù)編號：6200908
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本實用新型涉及一種可進行水平校準(zhǔn)的電子分析天平，包括測量基座與設(shè)置在測量基座上的測量室，所述測量基座包含控制面板、顯示屏，以及設(shè)立在測量基座上表面的測量平臺；所述測量室包括玻璃面板與前開門；所述測量基座下方設(shè)有至少3根相互間均獨立的支架，所述支架均可進行伸縮；所述測量基座上安裝有水準(zhǔn)器，所述水準(zhǔn)器內(nèi)部裝填有酒精，水準(zhǔn)器內(nèi)包含有一氣泡；所述水準(zhǔn)器表面標(biāo)有分標(biāo)線；采用上述技術(shù)方案的電子分析天平，其可使得每次測量時的天平均處于水平狀態(tài)，從而減少測量誤差，到達電子...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。