技術(shù)編號(hào)：6214799
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。測(cè)定頭(23)對(duì)產(chǎn)品基板(10)的膜(12)照射原始X射線，檢測(cè)由該膜(12)產(chǎn)生的熒光X射線。解析單元(33)由利用測(cè)定頭(23)檢測(cè)出的熒光X射線的強(qiáng)度求出膜(12)的厚度。專利說明膜厚測(cè)定裝置 [0001 ] 本發(fā)明涉及測(cè)定基板上的膜厚的膜厚測(cè)定裝置。 背景技術(shù) [0002]以往，作為膜厚測(cè)定裝置，有日本特開平11 一 6804號(hào)公報(bào)(專利文獻(xiàn)I)所記載的裝置。該膜厚測(cè)定裝置使用X射線反射率法測(cè)定基板上的膜厚。 [0003]但是，在上述以...
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