技術(shù)編號(hào)：6246713
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。一種測(cè)量聚合物薄膜內(nèi)溶液質(zhì)量及其粘彈性的方法，包括如下步驟1)在石英晶體微天平中，實(shí)時(shí)記錄溶液引起的標(biāo)準(zhǔn)芯片的頻率和耗散變化值和溶液引起的覆蓋有聚合物薄膜的標(biāo)準(zhǔn)芯片的頻率和耗散變化值，兩者相減，即可得到聚合物薄膜內(nèi)溶液的頻率和耗散變化值；2)以倍頻數(shù)和聚合物薄膜內(nèi)溶液的耗散變化值的乘積為橫坐標(biāo)，以聚合物薄膜內(nèi)溶液的頻率變化值和倍頻數(shù)的比值為縱坐標(biāo)作線性回歸方程，則線性回歸方程在縱坐標(biāo)軸上的截距為聚合物薄膜內(nèi)溶液質(zhì)量，線性回歸方程的斜率為聚合物薄膜的推遲時(shí)間...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。