技術(shù)編號(hào):6247491
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明公開了一種高分辨率光譜儀的設(shè)計(jì)方法以及光譜儀,使用凹面光柵、兩個(gè)入射狹縫和一個(gè)光探測(cè)器搭建光譜儀,包括以下步驟1)確定波長λ2和λ3的值,將整個(gè)光譜檢測(cè)范圍劃分為兩個(gè)波段范圍;2)根據(jù)兩個(gè)波段范圍復(fù)用一個(gè)光探測(cè)器的原則,由兩個(gè)入射狹縫的入射角滿足的光柵方程確定兩個(gè)入射角之間的關(guān)系式;3)確定得到記錄結(jié)構(gòu)參數(shù)和使用結(jié)構(gòu)參數(shù);4)根據(jù)所述記錄結(jié)構(gòu)參數(shù)確定所述凹面光柵的制作參數(shù),得到滿足應(yīng)用的凹面光柵;5)根據(jù)所述使用結(jié)構(gòu)參數(shù)初值確定兩個(gè)入射狹縫和一個(gè)光探...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。