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      用于阻尼物體的方法、主動(dòng)阻尼系統(tǒng)以及光刻設(shè)備的制作方法技術(shù)資料下載

      技術(shù)編號(hào):6320889

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      本發(fā)明涉及一種用于阻尼物體的方法、主動(dòng)阻尼系統(tǒng)以及光刻設(shè)備。背景技術(shù)光刻設(shè)備是一種將所需圖案應(yīng)用到襯底上,通常是襯底的目標(biāo)部分上的機(jī)器。例 如,可以將光刻設(shè)備用在集成電路(IC)的制造中。在這種情況下,可以將可選地稱(chēng)為掩模 或掩模版的圖案形成裝置用于生成在所述IC的單層上待形成的電路圖案??梢詫⒃搱D案 轉(zhuǎn)移到襯底(例如,硅晶片)上的目標(biāo)部分(例如,包括一部分管芯、一個(gè)或多個(gè)管芯)上。 通常,圖案的轉(zhuǎn)移是通過(guò)把圖案成像到提供到襯底上的輻射敏感材料(抗蝕劑)層...
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