技術(shù)編號：6749458
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種制作光記錄媒體原盤的方法，這種原盤用來生產(chǎn)或制造各種光盤。背景技術(shù) 在光記錄領(lǐng)域，正在實(shí)現(xiàn)更高的記錄密度，它要求在生產(chǎn)與此相應(yīng)的光記錄媒體原盤的工藝步驟中使用高解析度的光致抗蝕劑或電子束抗蝕劑等。這些高解析度光抗蝕劑和/或電子束抗蝕劑的特征是，側(cè)壁在完成構(gòu)圖后其形狀接近90度。因此這些高解析度光抗蝕劑和/或電子束抗蝕劑被認(rèn)為有利于對精細(xì)圖案進(jìn)行構(gòu)圖。同時，當(dāng)使用能使側(cè)壁形成大約90度的抗蝕劑來生產(chǎn)光記錄媒體原盤時，凹坑或者凹槽側(cè)壁也形成大約9...
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