技術(shù)編號(hào)：6773089
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。組合物、光學(xué)數(shù)據(jù)存儲(chǔ)介質(zhì)及使用所述光學(xué)數(shù)據(jù)存儲(chǔ)介質(zhì)的方法背景技術(shù)本公開涉及組合物和光學(xué)數(shù)據(jù)存儲(chǔ)介質(zhì)及使用所述光學(xué)數(shù)據(jù)存儲(chǔ)介質(zhì)的方法。一般而言，反飽和吸收體(RSA)為在給定波長(zhǎng)下具有特別低的線性吸收故而傳輸 此波長(zhǎng)下的幾乎所有光的化合物。但當(dāng)在這些給定波長(zhǎng)下遭受高強(qiáng)度激光功率時(shí)，低水平 線性吸收可能導(dǎo)致分子具有較高吸收截面故而在同一波長(zhǎng)下變得高度吸收的狀態(tài)；從而強(qiáng) 烈地吸收后續(xù)光子。例如，當(dāng)被波長(zhǎng)為532nm的入射光化輻射撞擊時(shí)，許多RSA將經(jīng)歷光致 激發(fā)...
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