技術(shù)編號(hào):6775242
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及無(wú)機(jī)抗蝕劑材料(resist materials)和使用該抗蝕劑材料的微加工(nanofabrication)方法,以及具體地涉及一種抗蝕劑材料和一種使用紫外至可見(jiàn)光區(qū)域的曝光源能夠高精度微加工的微加工方法。背景技術(shù) 最新用于,例如,半導(dǎo)體,光學(xué)設(shè)備,和磁設(shè)備的微加工的平版印刷需要在幾十個(gè)納米或更低的數(shù)量級(jí)上的圖案化精度(patterning precision)。為了實(shí)現(xiàn)這些高精度圖案化,已在各種領(lǐng)域如光源,抗蝕劑材料,和分檔器(stepper...
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