技術(shù)編號(hào)：6828821
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及半導(dǎo)體晶片處理裝置。與制造廠中半導(dǎo)體晶片處理裝置有關(guān)的主要操作成本之一是用于清洗設(shè)備的停車時(shí)間。停車時(shí)間有時(shí)是用在各次反應(yīng)器清洗之間實(shí)際處理的晶片的數(shù)量來度量。原則上，清洗是必需的，以使沉積在例如頂部電極、氣體擴(kuò)散頭以及相關(guān)的絕緣層和各壁板和其他各表面上的各種物質(zhì)，可以在開始另外的處理操作之前予以清除。適當(dāng)?shù)那逑词潜匦璧?，以使?jīng)過處理的晶片將不會(huì)受到由這些沉積物造成的顆粒和其他不希望有的物質(zhì)的污染，否則它們會(huì)損害正被制造的晶片或電路。一般地，當(dāng)設(shè)...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。