技術編號：6831139
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明是關于用于原子層沉積裝置之氣閥組件，且更確切而言，是關于具有磁性密封的氣閥組件。背景技術 通常，通過一個用于制造基板的制造過程來形成半導體設備或液晶顯示(LCD)設備，這個制造過程包括薄膜的沉積步驟、蝕刻步驟和清潔步驟。作為基板，晶圓可用于半導體設備而玻璃基板則可用于LCD設備。形成薄膜的方法可分成使用物理沖擊的物理汽相沉積(PVD)方法和使用化學反應的化學汽相沉積(CVD)方法。由于使用CVD方法制造的薄膜具有均勻性的優(yōu)勢并且覆蓋使用PVD方法制造...
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