技術(shù)編號(hào):6836017
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種抗反射層及改善導(dǎo)體層電性效能的方法,且特別是有關(guān)于一種。背景技術(shù) 隨著制程線寬越來(lái)越窄,使得微影制程的困難度隨之增加,這是因?yàn)榫€寬縮減后,容易發(fā)生對(duì)準(zhǔn)失誤的情形。尤其在定義導(dǎo)體層時(shí),因?yàn)閷?dǎo)體層的反射系數(shù)(reflectivity index)通常較周圍的介電層或絕緣層大,致使定義光阻層圖案時(shí),曝光光源容易在導(dǎo)體層表面發(fā)生反射,造成光阻層尺寸偏差,導(dǎo)致微影圖案轉(zhuǎn)移不正確。為防止上述所提的誤差出現(xiàn),可以在導(dǎo)體層上制造一層抗反射層(anti-ref...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。