技術(shù)編號(hào):6865247
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明大體上涉及半導(dǎo)體等離子體處理系統(tǒng),例如等離子體反應(yīng)器,更具體地說,本發(fā)明涉及一種氣體分布板組件,用于降低在等離子體環(huán)境中物質(zhì)間的重組。在集成電路的制造中,微影蝕刻技術(shù)被使用以在例如是硅晶片之基片上形成集成電路圖案。典型的情況是,基片是被披覆以光致抗蝕劑,光致抗蝕劑之諸部分通過光罩被曝光至激活用輻射,用以將所希望之電路圖案反映在光致抗蝕劑上。在負(fù)作用式光致抗蝕劑的示例中,光致抗蝕劑未受激活用輻射所曝光的諸部分是通過處理溶液來加以移除,而僅剩下已曝光的部...
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