技術(shù)編號(hào):6868721
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及包括流體存儲(chǔ)和分配容器的存量的動(dòng)態(tài)監(jiān)測(cè)過(guò)程 的流體存儲(chǔ)和分配系統(tǒng)。背景技術(shù)在半導(dǎo)體加工領(lǐng)域,包括例如離子注入機(jī)、化學(xué)氣相淀積、旋 轉(zhuǎn)覆蓋、蝕刻、處理腔室的清潔、廢水處理等,通常利用具有#>大 變化特性的專用流體試劑。由于這種流體試劑的高成本、顯著的毒性、和極高的純度要求, 各種專用源容器和密封裝置在半導(dǎo)體加工設(shè)備中已經(jīng)得到普遍的 使用。在一些實(shí)例中,在這種服務(wù)中已經(jīng)取代傳統(tǒng)氣體圓柱體的這 些特殊流體供應(yīng)裝置配備有各種流體監(jiān)測(cè)和控制設(shè)備。這種...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。