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      真空檢測裝置的制作方法技術資料下載

      技術編號:6871062

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      本發(fā)明涉及一種用于進行熱退火工藝的半導體生產設備的真空檢測 裝置。背景技術如圖1所示,目前進行熱退火工藝的半導體生產設備,以美國Metron 公司生產的Hp8800為例,其工藝要求在純N2的條件下進行硅片表面的熱 退火,而工藝腔體的門開關是由氣缸控制,然后通過檢測門上雙密封圈 11間的真空度來確認該門是否密封,雙密封圈的真空原來是通過一個真 空泵來抽的,由于真空泵12是一個易損壞部件,因此這種真空檢測裝置 的故障率高,穩(wěn)定性差,影響了設備的生產效率。發(fā)明內...
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