技術(shù)編號(hào)：6871224
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種隔振系統(tǒng)模擬試驗(yàn)裝置，特別是涉及一種微電子制造中光刻機(jī)的精密隔振系統(tǒng)及工件臺(tái)、掩模臺(tái)的精密定位技術(shù)，該系統(tǒng)可以用于步進(jìn)掃描光刻機(jī)及其他精密定位系統(tǒng)中。背景技術(shù) 集成電路超精微細(xì)加工工藝包括光刻、刻蝕、氧化、擴(kuò)散、摻雜、濺射等上百道工序，工藝非常復(fù)雜，設(shè)備要求極高，其中，實(shí)現(xiàn)超微圖形成像的光刻技術(shù)一直是推動(dòng)IC工藝技術(shù)水平發(fā)展的核心驅(qū)動(dòng)力，光刻機(jī)是集成電路裝備中最為重要的關(guān)鍵設(shè)備，其投資已占生產(chǎn)線總投資的30％以上。隨著分辨率和可靠性要求越來越...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。