技術(shù)編號：6873358
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及一種。更具體地講，本發(fā)明涉及一種，在該方法中混合化學(xué)氣相沉積裝置利用等離子體和/或熱在基底上形成絕緣鈍化層，有機發(fā)光器件形成在所述基底上。背景技術(shù) 等離子體氣氛廣泛地用在與薄膜相關(guān)的領(lǐng)域如化學(xué)氣相沉積工藝、蝕刻工藝和表面處理工藝中，因為等離子體氣氛能提高這些工藝的反應(yīng)效率并能夠使這些工藝在良好的條件下進行?？梢愿鶕?jù)等離子體的用途使用各種形成等離子體的方法。因此，正積極開發(fā)各種等離子體形成裝置。近來，能夠提高工藝效率的高密度等離子體處理裝置已經(jīng)用在...
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