技術(shù)編號：6876197
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種半導(dǎo)體器件，更具體地說，涉及一種提高半導(dǎo)體器件的可靠性的技術(shù)，其中該半導(dǎo)體器件包括由低介電常數(shù)介電膜構(gòu)成的層間介電膜。背景技術(shù) 近年來，為了提高半導(dǎo)體器件的運(yùn)行速度，正在對所謂的低介電常數(shù)介電膜(低k膜)進(jìn)行應(yīng)用，其中該低k膜具有低于通常使用的介電膜的介電常數(shù)，并用作半導(dǎo)體器件的層間介電膜的材料。通過例如降低材料密度從而變?yōu)榻殡娔せ蛘呷コ牧蠘O性從而變?yōu)榻殡娔?，獲得低k膜。在降低材料密度(膜密度)從而變?yōu)榻殡娔さ那闆r下，通常采用多孔材料。因此...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。