技術(shù)編號:6884072
提示:您尚未登錄,請點 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本實用新型是有關(guān) 一 種掩膜盒以及掩膜傳送盒,特別是指其中可防止靜電放電破壞的掩膜盒以及傳送 合背景技術(shù)近代半導(dǎo)體科技發(fā)展迅速,其中光學光刻技術(shù)(Optical Lithography)扮演重要的角色,只要是關(guān)于 圖形(pattern)定義,皆需仰賴光學光刻技術(shù)。光學光刻技術(shù)在半導(dǎo)體的應(yīng)用上,是將設(shè)計好的 線路制作成具有特定形狀可透光的掩膜(photo mask)。 利用曝光原理,則光源通過掩膜投影至硅晶圓(silicon wafer)可曝光顯示特定圖案。...
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該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識儲備,不適合論文引用。