技術編號：6892012
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及一種用于制造具有透明導電膜的設備，且更具體地涉及一種用于通過使用等離子體在真空下，在一基底上形成一透明導電膜的設備。如圖9至12所示，該常規(guī)的基底生產設備包括一離子電鍍設備，其通過使用一膜形成夾具(jig)900和饋送輥1000，通過在自一ITO燒結體蒸發(fā)且通過一等離子束被離子化的ITO的顆粒的氣氛中饋送一絕緣基底，而在該絕緣基底上形成一ITO膜，在該膜形成夾具900中，該絕緣基底被固定地配置。下面進行詳細的描述。圖9是在該常規(guī)的離子電鍍設備中使...
注意：該技術已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權人授權前，僅供技術研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術人員進行技術研發(fā)參考以及查看自身技術是否侵權，增加技術思路，做技術知識儲備，不適合論文引用。