技術(shù)編號:6900862
提示:您尚未登錄,請點 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明有關(guān)一種半導體制作工序,特別是有關(guān)一種將半導體基材干燥的 方法。背景技術(shù)隨著半導體元件尺寸持續(xù)縮小,超潔凈(ultra clean)制作工序的重要性 也持續(xù)升高。在一槽(或盆)的液體內(nèi)以水溶液清潔,其后緊接著旋干沖洗(例 如在另一個槽中,或是更換清潔槽中的液體),就可以獲得所期望的潔凈程 度。在由旋干制作工序移出后,若不使用旋干裝置,清洗液體將由基材表面 揮發(fā),并且導致條紋或斑點的產(chǎn)生,或是留下清洗殘留物在基材表面上。這 些條紋、斑點以及清洗殘留物可...
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