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      形成鈍化層窗口工藝中引入電荷的測(cè)試方法技術(shù)資料下載

      技術(shù)編號(hào):6903952

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      本發(fā)明涉及集成電路制造領(lǐng)域,尤其涉及。背景技術(shù)在集成電路制造領(lǐng)域, 一些工藝手段很容易在晶體管的表面引入電荷。例如工藝 線上經(jīng)常采用等離子體作為輔助手段進(jìn)行工藝加工,例如可以將等離子應(yīng)用于腐蝕、沉積, 灰化(ashing)等工藝中,相應(yīng)地形成等離子體刻蝕、等離子體輔助氣相沉積以及等離子體 灰化工藝等。上述采用等離子輔助的手段進(jìn)行加工的工藝過程中,由于等離子是一種電離 狀態(tài)的物質(zhì),因此在經(jīng)過芯片表面的過程中會(huì)在芯片上引入電荷。 平面工藝引入電荷容易導(dǎo)致芯片表...
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