技術(shù)編號(hào):6903952
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及集成電路制造領(lǐng)域,尤其涉及。背景技術(shù)在集成電路制造領(lǐng)域, 一些工藝手段很容易在晶體管的表面引入電荷。例如工藝 線上經(jīng)常采用等離子體作為輔助手段進(jìn)行工藝加工,例如可以將等離子應(yīng)用于腐蝕、沉積, 灰化(ashing)等工藝中,相應(yīng)地形成等離子體刻蝕、等離子體輔助氣相沉積以及等離子體 灰化工藝等。上述采用等離子輔助的手段進(jìn)行加工的工藝過程中,由于等離子是一種電離 狀態(tài)的物質(zhì),因此在經(jīng)過芯片表面的過程中會(huì)在芯片上引入電荷。 平面工藝引入電荷容易導(dǎo)致芯片表...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。