技術(shù)編號(hào)：6935577
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明有關(guān)一種測(cè)量對(duì)光罩圖案修正所引起基極與接觸間橋接(bridge)的方法、結(jié)構(gòu)與布局。(2)背景技術(shù)由于圖案轉(zhuǎn)移程序往往不能百分之百地將光罩的圖案轉(zhuǎn)移至光阻，而且顯影過程與蝕刻程序等也總難免會(huì)有耗損，因此實(shí)際形成在底材的圖案往往與光罩的圖案不同，而有下列的缺失終端變圓(end rounding)、終端變短(end shorting)、角落變圓(corner rounding)，臨界尺寸偏差(critical dimension offset)以及橋接現(xiàn)...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。