技術(shù)編號(hào):6988934
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。一般地講,本發(fā)明涉及光刻領(lǐng)域;更具體地講,涉及一種通過(guò)使用簡(jiǎn)單控制算法與反饋的處理控制系統(tǒng)取得晶片設(shè)計(jì)尺寸的方法。該反饋使用掩模設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)、掩模尺寸數(shù)據(jù)、以及歷史晶片圖形測(cè)量,以將臨界尺寸(CD)居中對(duì)準(zhǔn)(centre)到晶片圖形(feature)設(shè)計(jì)尺寸。本發(fā)明使用不同的母版測(cè)度(measurement),提供了一種通過(guò)確保對(duì)于每個(gè)晶片使用正確的曝光條件被處理來(lái)控制圖形大小、即線條或空間的臨界尺寸的方法。背景技術(shù) 在集成電路(IC)領(lǐng)域,光刻技術(shù)被用來(lái)將圖...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。