技術(shù)編號:6994226
提示:您尚未登錄,請點 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及一種顯示基底。更具體地講,本發(fā)明涉及一種顯示基底及制造該顯示基底的方法。背景技術(shù)顯示基底包括柵極線、源極線和開關(guān)元件。利用曝光掩模通過光工藝形成柵極線、 源極線和開關(guān)元件。當在用于制造顯示基底的工藝中使用較少的曝光掩模時,可減少制造顯示基底的時間和成本,并可提高生產(chǎn)率。近來,已經(jīng)研發(fā)出了利用三掩模來制造顯示基底的工藝。使用三掩模的工藝使用用于形成柵極圖案的第一掩模、用于形成半導(dǎo)體圖案和源極圖案的第二掩模以及用于將鈍化層圖案化以暴露接觸部分的第三掩...
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該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識儲備,不適合論文引用。