技術(shù)編號：7049727
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。根據(jù)本發(fā)明，提供一種用于處理半導體工件的設備，包括第一室，其具有第一等離子體產(chǎn)生源和用于將氣體供應引入所述第一室的第一氣體供應部；第二室，其具有第二等離子體產(chǎn)生源和用于將氣體供應引入所述第二室的第二氣體供應部，所述第二氣體供應部與所述第一氣體供應部能相互獨立地控制；置于所述第二室中的工件支承件；以及多個氣流通路限定元件，用于限定在所述工件放置在所述工件支承件上時鄰近所述工件的氣流通路，其中所述氣流通路限定元件包括用于保護晶片邊緣和/或在晶片邊緣周圍向外的區(qū)...
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