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      改善亮場機(jī)臺缺陷掃描精度的方法技術(shù)資料下載

      技術(shù)編號:7057362

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      本發(fā)明提出了一種,將芯片結(jié)構(gòu)按照不同材質(zhì)等劃分為多個區(qū)域,分別收集多個區(qū)域的灰階分布曲線,再針對影響每個區(qū)域的缺陷類型分別設(shè)定針對各掃描區(qū)域的SAT參數(shù),從而在對芯片進(jìn)行缺陷掃描時,根據(jù)不同的區(qū)域的灰階分布曲線使用相應(yīng)的SAT參數(shù)組合,避免現(xiàn)有技術(shù)中只使用某個區(qū)域進(jìn)行灰階收集所得灰階分布曲線進(jìn)行SAT參數(shù)設(shè)定影響掃描精度問題,進(jìn)而能夠很好的監(jiān)控形成的產(chǎn)品的良率。專利說明 [0001]本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,尤其涉及一種。 背景技術(shù) [0002]...
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