技術(shù)編號：7060075
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明提供一種準分子激光退火裝置和一種低溫多晶硅薄膜的制備方法。用于解決現(xiàn)有技術(shù)存在的由于低溫多晶硅薄膜退火中退火時有效退火時間短，晶粒較小的問題。本發(fā)明的準分子激光退火裝置，由于在待處理襯底遠離所述非晶硅薄膜的一側(cè)設(shè)有加熱單元，用于對所述待處理襯底進行加熱。該加熱單元在對待處理襯底進行退火過程中將襯底加熱，減少待處理襯底與非晶硅薄膜之間的溫度差，激光照射在非晶硅薄膜產(chǎn)生的熱量不會快速的傳導(dǎo)至襯底，減緩非晶硅薄膜的溫度降低速度、延長了退火時間，有利于將熔化...
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