技術(shù)編號：7064130
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明提供一種滅弧室消游離裝置，適于安裝在滅弧室本體上部的排氣出口處，包括至少兩層上下設(shè)置的通氣孔板、夾持在相鄰兩層通氣孔板之間的至少一個支架，至少兩層通氣孔板與至少一個支架圍成至少一個容納腔，每個容納腔內(nèi)填充有不可燃的顆粒填充物，顆粒填充物間留有用于氣體經(jīng)過的間隙，通氣孔板將間隙和容納腔的外部空間氣體連通，最下層的通氣孔板由絕緣材料制成。絕緣材料因復(fù)合作用吸收氣體中部分帶電粒子，產(chǎn)生的氣體可使進(jìn)入滅弧室排出的氣體加快冷卻，填充物間的間隙可以適當(dāng)增長氣流流...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。